中國報告大廳網訊,全球生產光刻膠的企業有富士電子材料、信越化學、日本合成橡膠、東京日化、羅門哈斯等。隨著半導體行業的快速發展,光刻膠市場需求保持了良好的增長態勢。
光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料,在半導體工業、PCB、平板顯示等領域得到廣泛應用。
光刻膠起源于美國,柯達KTFR光刻膠為光刻膠工業的開創者,光刻膠跟隨摩爾定律不斷演進。1950s貝爾實驗室嘗試開發首塊集成電路,半導體光刻膠由此誕生,并成為六七十年代半導體工業的主力體系,為半導體工業發展立下汗馬功勞。
光刻膠屬于技術和資本密集型行業,目前核心技術主要掌握在日、美等國際大公司手中,全球供應市場高度集中,日本JSR等五家龍頭企業占據全球光刻膠市場87%的份額。同時,海外龍頭已實現高端制程量產,其中日本主要廠商已實現領域內最先進的EUV光刻膠的量產,以陶氏、德國默克、錦湖石化為代表的其他光刻膠廠商也已實現ArF光刻膠的量產。
從全球市場來看,2022年行業CR6約為88%,市場集中度高。東京應化、JSR、住友化學、富士膠片四大日本企業分別占據27%、13%、12%、8%的市場份額,陶氏化學占據17%的市場份額,韓國東進占據11%的市場份額。
我國光刻膠行業起步較晚,生產能力主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產品,其中PCB光刻膠占比達94%。先進制程半導體光刻膠方面,g/i線膠自給率約10%,KrF膠自給率不足5%,ArF膠基本依靠進口,而EUV膠還仍處研發階段。
我國政府這幾年大力扶持半導體與原料產業發展,陸續出臺了多項政策支持光刻膠行業發展,推動產業大力研發,突破“卡脖子”技術,早日實現產業鏈核心技術國產化。
目前,雖然在總體研發和生產能力上,國內公司還不能完全與BASF等國際競爭對手全面抗衡,但經過多年技術積累 ,國內已形成一定光刻膠用電子化學品產能,相關公司市場份額逐步提升,進口替代正持續進行。
光刻膠是集成電路、半導體、面板等行業必不可少的關鍵原材料,預計在集成電路、半導體、面板等行業的快速發展下,預計2023年光刻膠市場規模將繼續增長。
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