中國報告大廳網訊,濺射沉積是一種常見的薄膜沉積技術,廣泛應用于半導體制造、光電顯示、太陽能電池等領域,以下是2024年濺射靶材行業前景分析。
《2024-2029年中國濺射靶材行業發展趨勢分析與未來投資研究報告》指出,我國濺射靶材行業起步相對較晚,長期以來一直依賴進口。然而,在國家相關政策的支持下,中國的濺射靶材產業得到了快速發展,并且國產化速度也在加快。
從產業鏈來看,濺射靶材產業鏈上游主要以原材料和生產設備為主,其中原材料包括金屬、合金、陶瓷等原材料,金屬原材料包括銅、鋁、鉻、鎳、鉭等,合金原材料包括鎳鉻合金、鎳鈷合金、鎳鉑合金、鎢鈦合金、鐵鈷合金等,陶瓷原材料包括ITO、二氧化硅、氧化硅、氧化鋅、氧化鈦等。設備包括提純設備、噴涂設備和濺射機臺;濺射靶材中游主要為靶材生產制造環節;濺射靶材下游應用于半導體、平板顯示、光伏、信息存儲、光學應用等領域。
從企業投入來看,國內政策的引導和各大企業逐步加大研發投入,國產化率也在不斷提高,以江豐電子、阿石創等企業為首的國內廠商快速發展,市場份額逐漸提升。江豐電子的超高純金屬濺射靶材在技術門檻最高的半導體領域已具備了一定國際競爭力。阿石創從成立至今一直專注于PVD鍍膜材料領域,2010年進入濺射靶材領域,2013年導入蘋果供應鏈,2015年自主研發的高純鉬靶導入一線面板廠,2017年ITO靶材量產線投產,2020年半導體芯片用靶材開始試產。
目前,國務院、國家發改委、工信部等政府部門已經通過各類文件多層次、多角度、多領域對高性能濺射靶材行業予以全產業鏈、全方位的指導,相繼出臺了《關于擴大戰略性新興產業投資培育壯大新增長點增長極的指導意見》《“十四五”原材料工業發展規劃》《制造業可靠性提升實施意見》《電子信息制造業2023-2024年穩增長行動方案》等多項支持我國高性能濺射靶材行業發展的產業政策,為行業內企業的經營發展提供了有力的支持和良好的環境。
半導體、顯示技術和光伏產業的持續發展,對濺射靶材的需求不斷增加。濺射靶材行業前景分析指出,新技術如先進的3D NAND閃存和高性能圖形處理器的生產需要更高質量的靶材。
電子設備、汽車電子(特別是電動汽車)和消費品的普及使得對濺射靶材的需求持續上升。尤其是在5G和物聯網技術的推動下,相關市場的擴展進一步提升了對靶材的需求。
全球對環保和可持續發展的重視促使行業采用更加環保的生產方式和材料。許多公司正在研發和應用更環保的靶材材料和生產工藝。
新型靶材如高純度靶材、合金靶材和復合靶材的研發推動了行業的發展。材料的創新能夠滿足更高要求的應用場景,并提高生產效率。
總的來說,隨著科技進步和市場需求的增加,濺射靶材行業在未來有望繼續保持增長態勢。
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