中國報告大廳網的最新市場調研揭示了半導體設備行業(yè)的品牌影響力。2024年,半導體設備市場迎來了新的變化,各大品牌在產品質量、技術創(chuàng)新和市場占有率等方面展開了激烈的競爭。
在2024年半導體設備品牌排行榜中,各大品牌通過不斷的努力和創(chuàng)新,提升了自身的品牌價值和市場競爭力。這些品牌在半導體設備的生產和供應上占據(jù)了重要地位,不僅在國內市場有著廣泛的影響力,也在國際市場上逐漸嶄露頭角。2024年半導體設備品牌排行榜的詳細排名為ASML阿斯麥、AMAT應用材料、Lam Research、Tokyo Electron、KLA科磊、ASMI、上海微電子Smee、北方華創(chuàng)、中微AMEC、電科裝備CETC。
表1:2024年半導體設備十大品牌排行榜
排名 | 品牌名稱 | 企業(yè)名稱 | 省份/地址 |
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1 | ASML阿斯麥 | 阿斯麥(上海)光刻設備科技有限公司 | 上海市 |
2 | AMAT應用材料 | 應用材料(中國)有限公司 | 上海市 |
3 | Lam Research | 泛林半導體設備技術(上海)有限公司 | 上海市 |
4 | Tokyo Electron | 東電電子(上海)有限公司 | 上海市 |
5 | KLA科磊 | 科磊半導體設備技術(上海)有限公司 | 上海市 |
6 | ASMI | 先晶半導體設備(上海)有限公司 | 上海市 |
7 | 上海微電子Smee | 上海微電子裝備(集團)股份有限公司 | 上海市 |
8 | 北方華創(chuàng) | 北方華創(chuàng)科技集團股份有限公司 | 北京市 |
9 | 中微AMEC | 中微半導體設備(上海)股份有限公司 | 上海市 |
10 | 電科裝備CETC | 中電科電子裝備集團有限公司 | 北京市 |
ASML創(chuàng)立于1984年,全球芯片光刻設備市場領導者,是全球最大的半導體光刻設備制造商之一,ASML于2000年推出TWINSCAN光刻機,2010年成功研發(fā)首臺EUV光刻機,是當前唯一可以生產EUV光刻機的公司。ASML在全球10余個國家設有60余個辦公...
AMAT成立于1967年,以薄膜沉積設備起家,是全球極具影響力的半導體和顯示設備制造商之一,目前產品與服務已覆蓋原子層沉積、物理氣相沉積、化學氣相沉積、刻蝕、快速熱處理、離子注入、測量與檢測、清洗等生產步驟,AMAT于1984年進入國內,是第一家進入中國的...
Lam Research創(chuàng)立于1980年美國,是全球領先的晶圓制造設備、技術和服務提供商,主營刻蝕設備、薄膜沉積設備和清洗設備,居于刻蝕設備行業(yè)領導地位,在納米級應用支持,化學,等離子和流體技術等領域建立了強大的競爭力,Lam Research于1994年...
TOKYO ELECTRON成立于1963年日本,是全球知名半導體制造設備、液晶顯示器制造設備提供商。主要產品涵蓋涂布/顯像設備、熱處理成膜設備、干法刻蝕設備、CVD、濕法清洗設備及測試設備,已在日本、美國、歐洲、韓國、中國等地都建立了自己的網點,在全球多...
KLA科磊由KLA和Tencor兩家公司于1997年合并而成,是全球領先的半導體檢測設備供應商,半導體前道量測設備領域影響力企業(yè),產品貫穿前道工藝過程控制全流程,為半導體制造及相關行業(yè)提供良率管理和制程控制解決方案,1999年在國內設立第一個分公司,目前已...
ASM International創(chuàng)立于1968年荷蘭,以晶圓加工設備起家,全球知名半導體設備提供商,ALD設備居于行業(yè)前列,是高端薄膜沉積設備行業(yè)全球領導者,主要提供ALD、epi、PECVD、爐管等產品,在北美、歐洲、亞洲等地設有技術研發(fā)與制造中心,業(yè)...
SMEE成立于2002年,是國產半導體光刻設備領域佼佼者,主要致力于半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設計、制造、銷售及技術服務,廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領域。
北方華創(chuàng)成立于2001年,深交所上市公司(股票代碼:002371),是國內領先的半導體裝備制造與服務商,旗下北方華創(chuàng)微電子主要提供刻蝕機、PVD、ALD、CVD、氧化/擴散爐、清洗機、氣體質量流量計等高端半導體工藝裝備及核心零部件,為半導體、新能源、新材料...
中微公司始于2004 年,2019 年于上交所上市(股票代碼:688012),是一家以中國為基地、面向全球的微觀加工高端設備公司,為集成電路和泛半導體行業(yè)提供高端設備和服務,國內刻蝕設備行業(yè)佼佼者,主要產品涵蓋刻蝕設備、MOCVD 設備、薄膜設備,服務遍布...
電科裝備成立于2013年,隸屬中國電子科技集團,具備集成電路局部成套和系統(tǒng)集成能力以及光伏太陽能產業(yè)鏈整線交鑰匙能力,已實現(xiàn)國產離子注入機28納米工藝制程全覆蓋,形成了以離子注入機、平坦化裝備(CMP)等為代表的微電子工藝設備研究開發(fā)與生產制造體系,涵蓋材...
在任何領域的企業(yè)成功,專利信息和起草標準的重要性不容忽視。專利信息是企業(yè)創(chuàng)新的重要產物,它可以保護企業(yè)權益,提升企業(yè)競爭力;起草標準則是企業(yè)產品制造和服務領域的質量保障,有助于規(guī)范市場行為,提高行業(yè)基礎標準。
序號 | 專利號/專利申請?zhí)?/th> | 專利名稱 |
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1 | ZL201310747393.8 | 一種調焦調平裝置 |
2 | ZL201410857409.5 | 一種硅片邊緣保護裝置 |
3 | ZL201110241791.3 | 一種步進光刻設備及光刻曝光方法 |
標準號 | 標準名稱 | 發(fā)布日期 | 實施日期 |
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GB/T 40577-2021 | 集成電路制造設備術語 | 2021-10-11 | 2022-05-01 |
序號 | 專利號/專利申請?zhí)?/th> | 專利名稱 |
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1 | ZL201210378282.X | 等離子體處理裝置及調節(jié)基片邊緣區(qū)域制程速率的方法 |
標準號 | 標準名稱 | 發(fā)布日期 | 實施日期 |
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GB/T 40577-2021 | 集成電路制造設備術語 | 2021-10-11 | 2022-05-01 |
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